2.2 以TiO2作为靶材
与以Ti为靶材相比,以TiO2为靶材,可将复杂的反应过程转化为较简单的物理过程。TiO2靶材通常导电性很差,由于一定的溅射速率需要一定的工作电流,若用直流溅射,则需大幅度提高直流溅射电源的电压来弥补靶材导电性不足引起的电压降。射频溅射对靶材的导电性没有要求,适用于各种金属和非金属材料,因此,射频溅射法的应用比较广泛。
射频溅射一般采用纯氩气作为溅射气体,可以通过改变某些射频溅射参数控制薄膜的结构和光学参数。由于TiO2靶材制备简单,且射频溅射技术已经比较成熟,这种镀膜方法已得到广泛应用。但此法溅射速率也不高。
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