电子在电场E作用下加速飞向基体的过程中与氩原子发生碰撞。若电子具有足够的能量(约为30 eV),则可电离出Ar+和另一个电子,该电子飞向基体,而Ar+在电场E作用下加速飞向阴极(溅射靶),并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。
2 以不同靶材镀TiO2薄膜的工艺
溅射法沉积薄膜的源材料即被轰击的固体,通常称为靶材。靶材按其组成可分为纯金属、合金和化合物三大类。由于溅射技术的广泛应用,靶材已成为一种具有高附加价值的特种光电子材料。
溅射镀TiO2镀膜时,选用的靶材有Ti, TiO2和TiO2-x(即非化学计量二氧化钛)等不同类型。下文介绍采用3种不同靶材溅射镀膜的具体情况。
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