2.1 Ti靶材
由于所镀的膜是TiO2,所以用金属钛作靶材镀膜时,有一个化学反应过程,气氛为氧气或氧气与其他惰性气体的混合气体。以Ti为靶材大大降低了靶材的制造成本,采用反应溅射可有效改善薄膜的性质,但存在过程不易稳定、溅射速率较低等弊端。
直流反应磁控溅射是以钛为靶材镀膜时常用的方法,镀膜后的玻璃具有良好的透明性、较强的光催化性能和光致超亲水性,薄膜均匀,厚度可控,但是此法对靶材的导电性有要求,导电率必须达到某一值以上才可行。
直流反应溅射时,气氛对溅射速率影响较大,氩气气氛下溅射速率最高,当氧气分压增大时,溅射速率降低,但氧气量又必须大于某一值才能使Ti转化为化学计量比的TiO2薄膜。溅射时基体温度、总压力对所得薄膜光学性质、致密度有一定的影响,对薄膜进行后期热处理也可以改变薄膜的应用性能。但总体来看,此法需进一步解决溅射速率不高的问题。
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