10nm加英特尔发布制作工艺路线图

放大字体  缩小字体 2019-12-12 10:48:15 作者:责任编辑NO。卢泓钢0469浏览次数:9555  

近几日,英特尔发布了未来十年工艺道路图,从整个道路图上看,英特尔方案用10年的时刻,将制作工艺由10nm晋级至1.4nm。期间每两年晋级一次,每代会有+和++两个迭代版别,其间10nm稍有不同,其包括10nm++和10nm+++两个迭代版别。

依照这个节奏,英特尔将会于2021年完成7nm工艺,其选用EUV技能;2023年完成5nm工艺;2025年完成3nm工艺;2027年完成2nm工艺;2029年完成1.4nm工艺。

英特尔工艺道路图

1.4nm有多么夸大,其相当于12个硅原子所占的空间,这在某种程度上预示着技能难度比较现在的10nm要高出许多。从7nm之后,英特尔没有发布将会选用的技能。

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